GE为全球先进的半导体生产商提供水净化系统

• GE为位于纽约的GlOBALFOUNDRIES 新工厂－第8晶片厂提供超纯水生产系统。

2010年7月5日――GE宣布其与GLOBALFOUNDRIES签署以下协议，GE将为该集团旗下新建的半导体生产基地提供超纯水生产系统。目前，该生产基地正处于施工建设阶段，建成后将位于纽约州萨拉托加县的Luther Forest科技园。GE将为市值为46亿美元的新电脑芯片生产商“第8晶片厂”提供全面的超纯水系统解决方案，包括系统设计、设备供应和安装。该新建的生产基地是美国目前规模最大的经济发展项目，预计在2012年年底竣工之际，它将成为全球最大最先进的半导体晶片生产基地。

“可靠且稳定的超纯水处理系统将为第8晶片厂的正常运营发挥重要作用。我们之所以选择GE, 是因为其丰富的工程经验，稳定可靠的的技术支持以及强大的现场服务能力。”

GLOBALFOUNDRIES的第8晶片厂的副总裁兼总经理Norm Armour表示。

GE先进的超纯水系统每天的处理量能达到百万加仑的水，其高品质出水将用于半导体制造。这大幅降低运营成本，并显著提高效率。

超纯水系统在半导体晶片制造过程中重起到至关重要的作用。在一个生产周期内，一个晶片与超纯水的接触超过35次，在任何一个环节发生供水中断或者水质不合格都会影响晶片的质量，甚至导致产品的报废。GLOBALFOUNDRIES需要全天候可靠的超纯水生产系统来实现高品质半导体晶片的可持续生产。

“我们很高兴能帮助GLOBALFOUNDRIES第8晶片厂达到能源和水资源的最大化利用，同时降低工厂的运行成本，这对实现GLOBALFOUNDRIES的环保目标有重要意义。这一举措对其公司在全球半导体行业内成功竞争至关重要。” GE发电设备与水处理，水处理及工艺过程部门的全球副总裁Jeff Connelly说,“这个项目充分反应了半导体行业对水质有着极其严格的要求，半导体行业对超纯水系统的需求量将会日益提高。”

GE的超纯水系统包括水处理技术，泵，储油罐，紫外线消毒器，臭氧发生器，离子交换，超滤系统和气体转移膜系统，以及调试，运行和维修服务。

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