薄膜硅型太阳能电池的优点有:硅用量可减至结晶硅型的1/100左右、能量偿付期(所发电力达到制造该产品所需电力的运行时间)短、与化合物半导体型太阳能电池相比不容易受Te(碲)等原料用量的限制等。不过,对太阳能电池厂商而言,引进多种真空成膜装置的初期投资成本高是一个很大的问题,需要通过转变成涂布成膜工艺来大幅降低成本。
据介绍,此次的电极墨,可利用大日本网屏制造(DNS)的涂布装置“Linearcoater”在1.4m×1.1m的大块玻璃上稳定成膜。这有利于削减薄膜硅型太阳能电池的制造成本。
三菱材料将在2011年11月28日~12月2日于福冈县福冈市举行的“21st International Photovoltaic Science and Engineering Conference(PVSEC-21)”上公布此次的开发成果。另外,大日本网屏制造(DNS)将在2011年11月28日~11月30日于中国上海市举行的“PV China 2011”上介绍这种墨的涂布工艺。(记者:赤坂 麻实,Tech-On!)
0 条