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AVACO推出新缓冲层以提高光伏转换效率

   2013-10-21 PV-Tech10670
核心提示:溅射(PVD)真空沉积设备和原子层沉积(ALD)设备制造专家AVACO日前宣布,为光伏电池开发了一个新缓冲层沉积概念。通过使用原子层沉积(
溅射(PVD)真空沉积设备和原子层沉积(ALD)设备制造专家AVACO日前宣布,为光伏电池开发了一个新缓冲层沉积概念。

通过使用原子层沉积(ALD)工艺,AVACO声称,已经将能源转换效率提高到高于缓冲层启用Cd的常规CIGS太阳能电池的30%左右。

AVACO业务发展总监Chuck Kim表示:“我们很高兴最新的ALD添加到我们的系统产品组合当中。我们核心技术的拓展进一步加强并拓宽了我们沉积工艺解决方案的供应,使得AVACO继续为我们的客户提供创新并领先的技术解决方案,以解决当今制造业的挑战。”

本周该公司将在芝加哥Solar Power International 2013的751号展位上参展。
 
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