NIR-01-3D型红外探伤测试仪是采用欧洲CNC工程铝合金材料,其表面都采用了高强度漆面和电氧化工艺保护,系统外框采用高质量工业设计,所有的部件的设计都达到了长期高强度使用及最小维护量的要求,做到绝对的稳定性和耐用性。
技术特点:
■自动化程度更高,测试效果更好
■采用铟镓砷传感器,而非一般厂家采用固定值的模拟摄像管,具有硬件图像校正和计算机参数控制的功能(包括亮度,伽马,积分时间),其灵敏度好,探伤结果与实际情况一致性佳。不需为不同尺寸的硅块设置不同的硬件参数(探伤位置,聚焦点,校准)
■我们的软件系统为不同硅块的表面情况及尺寸提供设置菜单,没有必要在硬件上进行设置(当然我们也可以从硬件上进行设置)。
■光源探照有效同质区域为300×330mm/550mm,我们采用了特殊扩散板材料,保证了在没有图像处理的情况也能确保成像质量。
■测试范围更广
■不仅可以探测标准尺寸的硅块,而且可以探测任何尺寸的硅块,没有光源照射区域限制。
■也可直接对未抛光的硅块进行直接探测。
■寿命更长
■红外照相机3年免费保修或更换的承诺
■我们采用的是独特的含有冷却单元的工业级镀金近红外卤管,保证了光源的持久耐用性,设备已经不采用普通卤管设计,我们提供了强致冷却单元,为设备的正常使用提供了足够的冷却单元,大大延长了仪器的使用寿命。
■所有的部件的设计都达到了长期高强度使用及最小维护量的要求
■即使在高照明的条件下,我们的相机传感器也几乎没有退化的情况。
■有多年在欧洲生产销售应用的经验,产品具有优良的工业应用性。
■检测更快
■检测速度快,自动四面检测< 1分钟,快速两面检测<20秒,一面<5秒
■系统功能强大
■可定制硅块缝合复原功能
■可定制硅块尺寸测试模块
■可根据客户需求进行功能模块定制,包括硅锭晶体生长情况进行工艺分析
■ 可定制在线生产模式
■ 可定制砷化镓磷化铟等其他半导体材料的探伤检测
■ 可定制中文操作系统界面
技术指标:
■主要探测指标:裂缝,黑点,夹杂(通常为SiC),隐裂,微晶
■硅块电阻率:≥0.5Ohm*Cm(推荐)
■检测时间:平均每个硅块小于1分钟,两面小于20秒,一面小于5秒
■硅块尺寸:210mmx210mmx420mm
■ 分辨率:320px*256px(最早生产的产品)
640 px *512px(目前市场供应)
1280 px*1024px(2010年12月份批量生产)
2560 px*2048px(行业最高,2011年1-3月份批量生产)
■ 旋转台
■采用单轴伺服电机
■最大承载量:40kg
■具有过流保护以防止损伤和电机烧毁
■无步进损失,高分辨率解码机器
■红外光源
■高强度NIR卤灯,273mm加热波长
■功率:230V,1000W
■温度:25-60摄氏度
■光强可通过软件控制
■软件具有过热保护
■观测仪
■采用红外CCD控温
■12位ADC
■频率:60Hz和100Hz两个选择
■像素间距: 30μm
■可手动调节红外镜头
■ 测试样品
■测试硅块尺寸:210mmx210mmx420mm
■一套硬件装备可以检测所有尺寸的硅块
■适用于不同的表面质量和厚度的硅块
■适用于抛光面和裸面,抛光面探测效果更佳
■电阻率:≥0.5Ohm*Cm(推荐)
■ 应用
■裂缝,黑点,夹杂(通常为SiC),隐裂,微晶
■ 软件(基于WIN XP)
■可从四个方向进行自动取样
■可快速进行样块的快速测量
■软件会对探测结果进行评价
■可对检测参数进行灵活设置
■可进行像素管理和图像处理
■系统将对探测结果进行三维立体描绘
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