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高纯贵金属黄金靶材及金基合金溅射靶材 SEM离子溅射金Au

 
品牌: szznna
单价: 600.00元/件
起订: 1 件
供货总量: 100 件
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
所在地: 江苏 苏州市
有效期至: 长期有效
最后更新: 2025-01-07 14:41
浏览次数: 43
 
公司基本资料信息
详细说明

供应科研高纯度贵金属黄金靶材及金基合金溅射靶材Gold(Au)Targets科研及PVD涂层材料

 

产品名称:

高纯黄金及金基合金溅射靶材

牌号规格:

Au01、Au1、AuGe12、AuGeNi11.5-5、AuGeNi12-4、Au80Sn20

用途备注:

金、金锗、金锗镍等溅射靶材通过磁控溅射工艺沉积在半导体芯片如GaAs、GaP、GaN等表面,形成欧姆接触膜、电极和连线膜。可形成多种金属化膜系统。

 

高纯贵金属金及合金是制造半导体芯片的关键基础材料。使用金靶材将金膜沉积在半导体芯片表面,形成欧姆接触膜、电极和连线膜,可形成多种金属化膜系统。该金属氧化膜系统可大量应用于制造发光二极管(LED),军民用微波通信器件,航天、航空等重要领域用半导体化合物以及芯片太阳能电池等领域。

另外,我们为客户提供铜背板与靶材的绑定服务技术(Bonding),由纯铟作为中间的焊接材料使用铜底板与靶材紧密的结合,有利于靶材表面温度的快速散掉,提高靶材的使用率。

 

化学成分

序号

合金牌号

主成分

Au

Ge

Ni

Ga

Be

1

Au1

≥99.99





2

Au01

≥99.999

——

——

——

——

3

Au88Ge

88±0.5

余量

——

——

——

4

Au83.5GeNi

83.5±0.5

余量

5±0.4



备注:可按客户要求提供其它成分的产品。

外形尺寸(mm)

合金牌号

形状

规格

允许偏差

厚度

允许偏差

Au1、Au01

圆形

100-250

±0.1

3~6

±0.2

方形

127×381

±1

3~6

±0.2

AuGe12、Au83.5GeNi、

圆形

100-250

±0.3

6

±0.5

方形

127×381

±1

6

±0.5

备注:可供其它规格和允许偏差的产品。

 

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黄金及金基合金溅射靶材Gold(Au)Targets

 

一、黄金靶材概述:

 

高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Gold(Au)Targets,作为科研及PVD(物理气相沉积)涂层材料的佼佼者,以其纯度、高密度的物理特性以及独特的熔点,在半导体、光电子、航空航天等多个高科技领域展现出了非凡的应用优势。

我司深耕靶材领域十年,专注研发与生产,铸就行业精品。所生产单材质靶材如下:

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒

Aluminum (Al)

Nickel (Ni)

Antimony (Sb)

Niobium (Nb)

Arsenic (As)

Osmium (Os)

Barium (Ba)

Palladium (Pd)

Beryllium (Be)

Platinum (Pt)

Boron (B)

Rhenium (Re)

Cadmium (Cd)

Rhodium (Rh)

Carbon (C)

Rubidium (Rb)

Chromium (Cr)

Ruthenium (Ru)

Cobalt (Co)

Selenium (Se)

Copper (Cu)

Silicon (Si)

Gallium (Ga)

Silver (Ag)

Germanium (Ge)

Tantalum (Ta)

Gold (Au)

Tellurium (Te)

Hafnium (Hf)

Tin (Sn)

Indium (In)

Titanium (Ti)

Iridium (Ir)

Tungsten (W)

Iron (Fe)

Vanadium (V)

Lead (Pb)

Yttrium (Y)

Magnesium (Mg)

Zinc (Zn)

Manganese (Mn)

Zirconium (Zr)

Molybdenum (Mo)


 

二、材料特性:

首先,从材料特性来看,高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材的纯度高达99.999%,这一超高的纯度确保了靶材在溅射镀膜过程中能够沉积出极其纯净且均匀的薄膜层,有效提升了产品的性能与可靠性。其密度达到19.3g/cm³,使得靶材在溅射过程中能够保持稳定的溅射速率和均匀的溅射面积,进一步保证了镀膜质量。而黄金的熔点高达1064.2℃,这一特性使得靶材在高温环境下依然能够保持稳定,满足各种极端条件下的应用需求。

三、在行业中,高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材的应用优势尤为突出。

1在半导体领域,它们是制造集成电路芯片的关键材料,通过磁控溅射工艺,将金膜沉积在半导体芯片表面,形成欧姆接触膜、电极和连线膜,极大地提升了芯片的导电性能和稳定性。同时,金靶材的高纯度确保了薄膜层的纯净度,降低了芯片故障率,提高了产品的整体性能。

2在光电子领域,高纯黄金靶材被广泛应用于平板显示器、太阳能电池等产品的生产中。通过PVD技术,金膜被精确地沉积在基材表面,形成透明导电层或电极层,不仅提升了产品的光电转换效率,还增强了产品的耐候性和使用寿命。此外,金基合金靶材如AuGe、AuGeNi等,通过调整合金成分,可以进一步优化靶材的性能,满足更多样化的应用需求。

3在航空航天领域,高纯溅射靶材同样发挥着重要作用。它们被用于制备各种高性能涂层,如耐磨涂层、防腐蚀涂层等,以提高飞机、火箭等飞行器的表面性能,延长使用寿命。金靶材的高密度和优异的物理性能使得这些涂层能够在极端环境下保持稳定,为飞行器的安全运行提供有力保障。

综上所述,高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Gold(Au)Targets以其纯度、高密度的物理特性以及独特的熔点,在科研及PVD涂层材料领域展现出了广泛的应用前景和巨大的市场潜力。随着科技的不断发展,它们将在更多高科技领域中发挥更加重要的作用,推动相关产业的技术进步和产业升级。

 

扫描电子显微镜SEM离子溅射高纯金Au镀膜靶材

扫描电子显微镜(SEM)作为现代材料科

学、生物医学、环境科学等领域不可或缺的重要分析工具,其高分辨率成像能力为科研人员提供了前所未有的微观世界观察视角。然而,SEM的使用并非毫无限制,样品的导电性能是影响成像质量的关键因素之一。对于导电性差的样品,如生物组织、陶瓷、高分子材料等,往往需要通过镀膜处理来提高其导电性,从而确保SEM成像的清晰度和准确性。在这一背景下,离子溅射仪及其核心材料——高纯金Au镀膜靶材,显得尤为重要。

离子溅射仪是一种专为SEM样品镀膜设计的设备,它利用等离子体轰击靶材表面,使靶材原子或分子获得足够的能量后从表面逸出,并沉积在样品表面形成一层均匀、致密的薄膜。这一镀膜过程不仅提高了样品的导电性,还能有效防止电荷积累,减少图像伪影,提高SEM成像的分辨率和清晰度。

高纯金Au镀膜靶材作为离子溅射仪的关键组件,具有一系列独特的性能优势。首先,金(Au)是一种贵金属元素,具有极佳的导电性和化学稳定性。其导电性能优于大多数金属,能够有效提高样品的导电性,确保SEM成像的准确性和清晰度。同时,金的化学稳定性强,不易与样品发生化学反应,从而保证了镀膜层的稳定性和可靠性。

其次,高纯金靶材的纯度极高,通常达到99.99%以上,几乎不含任何杂质。这种高纯度不仅确保了镀膜层的质量和均匀性,还避免了杂质对SEM成像的干扰。此外,金靶材的熔点和沸点都非常高,使得镀膜过程能够在高温和极高压力下保持稳定,进一步提高了镀膜层的质量和稳定性。

SEM样品镀膜过程中,高纯金Au镀膜靶材的应用优势主要体现在以下几个方面:

1提高成像质量:金靶材的优异导电性能使得镀膜后的样品在SEM下能够获得更清晰、更准确的图像。这对于生物组织、陶瓷等导电性差的样品尤为重要。

2增强样品稳定性:金靶材的化学稳定性强,不易与样品发生化学反应,从而保证了镀膜层的稳定性和持久性。这对于需要长时间观测或保存的样品具有重要意义。

3拓宽应用领域:高纯金靶材的优异性能使得其在多个领域中得到广泛应用。除了SEM样品镀膜外,金靶材还常用于制造高精度传感器、电子元件以及高端装饰品等。

4在行业中,高纯金Au镀膜靶材的应用优势尤为明显。在生物医学领域,金靶材被广泛应用于组织切片、细胞培养等生物样品的镀膜处理,提高了SEM成像的准确性和清晰度,为生物医学研究提供了有力支持。在材料科学领域,金靶材的优异性能使得其在薄膜沉积、纳米材料制备等方面具有广阔的应用前景。此外,金靶材还被广泛应用于高端装饰品制造领域,如珠宝、手表等,以其高贵和闪亮的外观赢得了消费者的青睐。

综上所述,电子显微镜SEM离子溅射仪与高纯金Au镀膜靶材的结合,为SEM分析提供了高效、可靠的样品制备手段。高纯金靶材的优异性能确保了镀膜层的质量和稳定性,从而提高了SEM成像的清晰度和分辨率。在多个行业中,高纯金靶材的应用优势得到了充分体现,为相关领域的科技进步和产业发展做出了重要贡献。


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